1.概要

　卓上リフロー炉は、基板予備加熱やハンダ付工程で使用されています。また最近では破壊試験用途で使用されるケースが多くなっております。
　昇温曲線から160℃～180℃キープ（第一段階）、240℃～260℃キープ（照射エンド）。基板の形状によっては、熱風を併用したものも提案可能です。
また炉長が短く、上下温度変更可のため、量産前のデータ収集にも最適です。
酸化防止が必要なワークについては、Ｎ２仕様の設定もございます。
高精度の温度分布とコンパクト設計で人気の機種です。